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简介:设备型号:ZHD300镀膜方式:多源金属蒸发真空腔室结构:玻璃钟罩+不锈钢底座真空腔室尺寸:Φ300mm×H360mm加热温度:室温~250℃基片台尺寸:Φ100mm膜厚不均匀性:Φ80mm范围内≤±
简介:设备名称:钙钛矿太阳能电池蒸发设备(不与手套箱连接)设备型号:ZHD400镀膜方式:金属+有机蒸发真空腔室结构:立式方形前开门结构真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm基片台尺寸:12
简介:设备名称:钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备(镀膜机+手套箱复合型)设备型号:JCPS600镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:SUS304方箱式,配有前、后门真空腔室尺寸:L600×D600×H550mm加热
简介:设备名称:钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备(镀膜机+手套箱复合型)设备型号:JCPS400镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:SUS304方箱式,配有前、后门真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450
简介:设备名称:钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备(不与手套箱连接)设备型号:JCP700镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:立式圆腔前开门结构侧置抽气系统真空腔室尺寸:φ700×H550mm基片台尺寸:220mmx
简介:设备名称:钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备(不与手套箱连接)设备型号:JCP500镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:立式圆腔前开门结构侧置抽气系统真空腔室尺寸:Φ500mm×H420mm基片台尺寸:Φ150
简介:设备名称:PVD大面积磁控镀膜设备设备型号:JCPF2600镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:SUS304方箱式真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm极限真空:优于5.0x10-5Pa
简介:Fastmicro仪器表面颗粒物分析仪(SAS)Fastmicro仪器表面颗粒物分析仪,是一款基于“胶带粘取”采样技术的表面污染检测工具,可通过间接测量方式识别小至0.5um的颗粒污染物。其配备的专用
简介:Fastmicro晶圆表面颗粒物快速检测系统(PDS)Fastmicro晶圆表面颗粒物快速检测系统,专为各行业产品表面颗粒污染物直接测量而设计,主要应用于半导体领域的晶圆、薄膜及光罩检测,也可用于显示
等离子化学气相沉积系统-PECVD
地址:安徽
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简介:等离子化学气相沉积系统-PECVDZYE-1200-PE为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。它是由500W射
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