设备名称：PVD大面积磁控镀膜设备
设备型号：JCPF2600
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：SUS304 方箱式
真空腔室尺寸：L2600mmxH700mmxW260mm
极限真空：优于 5.0x10-5Pa
基片台尺寸：300mmx400mm向下兼容300mmx300mm
基片温度：常温
溅射靶：矩形平面靶1套，旋转柱状靶2套
控制方式：PLC/PC 控制 ( 可选 )
占地面积：15000mmx5000mm
供电总功率：≥ 20kW 三相五线制
1. 大面积，复合型，批量制备，洁净真空不同功能复合涂层制备，可获得更高电池转换效率；
2. 广泛应用于钙钛矿空穴传输层及金属背电极等膜层的制备；
3. 技术先进、设计优化，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
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