设备名称：钙钛矿太阳能电池磁控溅射设备（不与手套箱连接）
设备型号：JCP500
镀膜方式：磁控溅射
真空腔室结构：立式圆腔前开门结构 侧置抽气系统
真空腔室尺寸：Φ500mm×H420mm
基片台尺寸：Φ150mm
膜厚不均匀性：≤±5.0%（100mmx100mm范围内）
基片台加热：室温～500℃
基片台水冷：10℃～30℃
溅射靶：φ3英吋靶*3支 兼容DC/MF/RF溅射
晶振膜厚监控仪：国产或进口（可选）
控制方式：PLC + 触摸屏控制
占地面积：L1750mm×W800mm×H1900mm
总功率：≥10kW
1.国内技术**、市场占有率**，设计优化，性能稳定，使用维护成本低。
2.广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用。
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