设备型号：ZHD300
镀膜方式：多源金属蒸发
真空腔室结构：玻璃钟罩 + 不锈钢底座
真空腔室尺寸：Φ300mm×H360mm
加热温度：室温～ 250℃
基片台尺寸：Φ100mm
膜厚不均匀性：Φ80mm 范围内≤ ±5.0%
蒸发源：2组金属蒸发源
控制方式：PLC + 触摸屏控制
占地面积：主机 L1100mm×W800mm
总功率：≥ 5kW
适用范围：大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备
1. 设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
2. 设备配备多组蒸发源，兼容有机蒸发与无机蒸发 , 多源共蒸获得复合膜。设计专业，功能强大，性能稳定；
3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等。
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