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纳米超硬膜涂层设备GDM1000
地址：北京
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简介：设备名称：纳米超硬涂层设备设备型号：GDM1000真空腔室尺寸：Φ1000mm×H1200mm真空系统：国产/进口分子泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空：优于8.0×10-5Pa抽速：从大气到5.0
纳米超硬膜涂层设备GDM900
地址：北京
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简介：设备名称：纳米超硬涂层设备设备型号：GDM900真空腔室尺寸：Φ900mm×H930mm真空系统：国产/进口分子泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空：优于8.0×10-5Pa抽速：从大气到5.0×10
粉体镀膜设备JGCF1000
地址：北京
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简介：设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF1000镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ600mmxL1000mm粉体/颗粒尺寸：≥20um物料装载：槽式震动式，连续进料产量：2000g加热烘烤：可选溅射源
粉体镀膜设备JGCF800
地址：北京
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简介：设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF800镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ800mmxL800mm粉体/颗粒尺寸：≥20um物料装载：滚筒震动式产量：500g加热烘烤：可选溅射源：矩形/圆柱靶占
粉体镀膜设备JGCF350
地址：北京
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简介：设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF350镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ350mmxH350mm粉体/颗粒尺寸：≥10um物料装载：托盘震动产量：3-10g加热烘烤：可选溅射源：2英寸圆形平面
高真空磁控溅射镀膜设备JCP500
地址：北京
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简介：设备型号：JCP500真空腔室结构：立式前开门结构后置抽气系统真空腔室尺寸：Φ500mm×H420mm加热温度：室温～500℃基片台尺寸：Φ150mm膜厚不均匀性：Φ100mm范围内≤±5.0%溅射靶
高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600
地址：北京
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简介：设备型号：TEMD600镀膜方式：E型电子枪真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统真空腔室尺寸：Φ600mm×H750mm加热温度：室温～300℃基片台尺寸：平板型Φ350mm，或球罩型基片
电阻蒸发镀膜设备ZHDS500
地址：北京
我要询价
简介：设备型号：ZHDS500镀膜方式：金属+有机蒸发真空腔室结构：SUS304方箱式，配有前、后门真空腔室尺寸：L500mmxW500mmxH650mm加热温度：室温-300℃（选配）基片台尺寸：抽屉式:
电阻蒸发镀膜设备ZHDS400
地址：北京
我要询价
简介：设备型号：ZHDS400镀膜方式：金属+有机蒸发真空腔室结构：SUS304方箱式，配有前、后门真空腔室尺寸：L400mmxW440mmxH450mm加热温度：室温-300℃（选配）基片台尺寸：抽屉式:
电阻蒸发镀膜设备ZHD600
地址：北京
我要询价
简介：设备型号：ZHD600镀膜方式：多源蒸发镀膜真空腔室结构：立式圆柱前开门真空腔室尺寸：Φ650mm×H800mm加热温度：室温～300℃基片台尺寸：平板或伞罩型膜厚不均匀性：≤±5.0%蒸发源：2-3
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