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无掩膜光刻机
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简介:泽攸科技无掩膜光刻机是一种先进的光刻技术设备,它不需要使用传统的物理掩膜版来转移电路图形,而是通过计算机控制的高精度光束直接在感光材料上进行扫描曝光,形成所需的微细图形。目前在微电子制造、微纳加工、M
电子束光刻机
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简介:泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)采用场发射电子枪,配合一体化的高速图形发生系统实现对半导体晶圆的高速、高分辨光刻。该系统标配高精度激光干涉样品台,允许用户实现大行程高精度拼接和套刻需求,在
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
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简介:多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜
简介:产品名称:红外气体传感器产品型号:Gasboard-2061红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产
红外气体传感器 Gasboard-2060
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简介:产品名称:红外气体传感器产品型号:Gasboard-2060红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产
简介:设备名称:多功能磁控离子溅射复合镀膜设备设备型号:TSU650真空腔室结构:立式圆柱形前开门,双层水冷,多通用法兰接口真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm工件架尺寸:Φ490mm,4-6工位公/自
简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF1200真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:Φ500m
简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF700真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ700mmxH700mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:350mm²×3
简介:用于生长毫米级金刚石厚膜、纳米晶金刚石涂层或微米晶金刚石涂层、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等,在切削刀具、模具、丝锥、BDD水处理电极等表面沉积金刚石薄膜。热丝化学气相沉积金刚石技术,已广泛应用于国内
简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF450真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm真空系统:复合分子泵高真空系统基片台尺寸:Φ100m
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