设备名称：多功能磁控离子溅射复合镀膜设备
设备型号：TSU650
真空腔室结构：立式圆柱形前开门，双层水冷，多通用法兰接口
真空腔室尺寸：Φ650mm×H650mm
工件架尺寸：Φ490mm，4-6 工位公 / 自转工件架
工件架烘烤温度：室温～ 500±5℃，可调可控（PID 控温）
工件架运动方式：公转 0-5RPM 可调
辅助离子源：偏压、线性离子源辅助（可选）
阴极：矩形磁控靶、柱状靶、平面弧源、磁过滤弧源（可选） 国产或进口靶、或电源可选
控制方式：PLC 控制 / 工控机全自动控制可选
占地面积：主机 L2800mm×W1200mm×H1950mm
总功率：≥ 60kW
选购件：基片台加热系统、循环水机、膜厚控制系统等
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