设备型号：ZHD600
镀膜方式：多源蒸发镀膜
真空腔室结构：立式圆柱前开门
真空腔室尺寸：Φ650mm×H800mm
加热温度：室温～ 300℃
基片台尺寸：平板或伞罩型
膜厚不均匀性：≤ ±5.0%
蒸发源：2-3 组金属蒸发源
控制方式：PLC/PC（可选）
占地面积：主机 L1000mm×W1200mm×H1900mm
总功率：≥ 12kW
大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备 。
1. 设备一体化设计，占地面积小，性价比高，性能稳定，使用维护成本低；
2. 设备配备多组蒸发源，兼容有机蒸发与无机蒸发 , 多源共蒸获得复合膜。设计专业，功能强大，性能稳定；
3. 适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜，也可用于生产线前期工艺试验等。
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