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简介:Fastmicro仪器表面颗粒物分析仪(SAS)Fastmicro仪器表面颗粒物分析仪,是一款基于“胶带粘取”采样技术的表面污染检测工具,可通过间接测量方式识别小至0.5um的颗粒污染物。其配备的专用
简介:Fastmicro晶圆表面颗粒物快速检测系统(PDS)Fastmicro晶圆表面颗粒物快速检测系统,专为各行业产品表面颗粒污染物直接测量而设计,主要应用于半导体领域的晶圆、薄膜及光罩检测,也可用于显示
等离子化学气相沉积系统-PECVD
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简介:等离子化学气相沉积系统-PECVDZYE-1200-PE为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)。它是由500W射
DMD无掩膜光刻机
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简介:泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备,专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源,并结合先进的DLP技术,实现了黄光或绿光引导曝光功能,真正做到“所见即所
电子束光刻机
地址:安徽
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简介:泽攸科技ZEL304G电子束光刻机(EBL)采用场发射电子枪,配合一体化的高速图形发生系统实现对半导体晶圆的高速、高分辨光刻。该系统标配高精度激光干涉样品台,允许用户实现大行程高精度拼接和套刻需求,在
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
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简介:多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜
简介:产品名称:红外气体传感器产品型号:Gasboard-2061红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产
红外气体传感器 Gasboard-2060
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简介:产品名称:红外气体传感器产品型号:Gasboard-2060红外气体传感器产品概述红外气体传感器是由四方仪器自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产
简介:设备名称:多功能磁控离子溅射复合镀膜设备设备型号:TSU650真空腔室结构:立式圆柱形前开门,双层水冷,多通用法兰接口真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm工件架尺寸:Φ490mm,4-6工位公/自
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
地址:北京
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简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF1200真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:Φ500m
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