泽攸科技ZML10A是一款创新的桌面级无掩膜光刻设备，专为高效、精准的微纳加工需求设计。该设备采用高功率、高均匀度的LED光源，并结合先进的DLP技术，实现了黄光或绿光引导曝光功能，真正做到“所见即所得”，极大提升了操作便捷性和工艺可控性。其独特的光路结构和高精度直线电机位移台确保了**的曝光精度和重复定位能力，同时配备CCD相机逐场自动对焦系统，进一步优化了成像质量和工艺稳定性。设备支持电动物镜切换和激光主动对焦功能，能够灵活应对不同应用场景的需求。其紧凑的桌面小型化设计不仅节省空间，还便于在实验室或生产环境中部署。此外，ZML10A配备了直观易用的软件界面，大幅降低了操作门槛，即使是初学者也能快速上手。无论是超材料结构、电极图案还是微流控芯片等复杂微纳结构的制备，ZML10A都能提供可靠的支持，是科研工作者和工业用户的理想选择。

技术特点

▲ 桌面小型化

▲ 高功率、高均匀度LED刻写光源

▲ 绿光引导曝光，所见即所得

▲ CCD相机逐场图像自动对焦

▲ 高精度直线电机位移台

▲ 用户友好，易于操作的软件界面

光路远离结构图

主要指标

应用案例