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Atlant 3D 直接原子层打印系统

公司：复纳科学仪器（上海）有限公司

地址：上海

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简介：「原子级制造迎来范式转变」随着先进电子、光子、量子技术和航空航天制造的快速发展，全球制造业正面临前所未有的挑战：更高的材料精度、更复杂的器件结构、更高性能与更低能耗的同时，还需具备更强的材料与设计灵活

四方仪器氧分析仪半导体制造、空气分离、惰性气体焊接等

公司：四方光电（武汉）仪器有限公司

地址：湖北

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简介：产品名称：氧分析仪产品型号：Gasboard-3053产品概述氧分析仪Gasboard-3053搭载高稳定性的氧化锆核心传感器，覆盖25%富氧至1ppm微量氧的全范围测量。具有测量精度高、响应时间快、

FT-3110 系列全自动四探针测试仪

公司：宁波瑞柯析理仪器有限公司

地址：浙江

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简介：全自动四探针测试仪（含FT-3110A/FT-3110B）采用四点探针法与ASTM标准，支持全自动测量、PC软件数据采集与分析，可检测电阻率、方块电阻、厚度等参数，兼具2D/3D扫描图谱显示与温湿度监

纳米超硬膜涂层设备GDM1000

公司：北京泰科诺科技有限公司

地址：北京

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简介：设备名称：纳米超硬涂层设备设备型号：GDM1000真空腔室尺寸：Φ1000mm×H1200mm真空系统：国产/进口分子泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空：优于8.0×10-5Pa抽速：从大气到5.0

纳米超硬膜涂层设备GDM900

公司：北京泰科诺科技有限公司

地址：北京

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简介：设备名称：纳米超硬涂层设备设备型号：GDM900真空腔室尺寸：Φ900mm×H930mm真空系统：国产/进口分子泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空：优于8.0×10-5Pa抽速：从大气到5.0×10

粉体镀膜设备JGCF1000

公司：北京泰科诺科技有限公司

地址：北京

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简介：设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF1000镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ600mmxL1000mm粉体/颗粒尺寸：≥20um物料装载：槽式震动式，连续进料产量：2000g加热烘烤：可选溅射源

粉体镀膜设备JGCF800

公司：北京泰科诺科技有限公司

地址：北京

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简介：设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF800镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ800mmxL800mm粉体/颗粒尺寸：≥20um物料装载：滚筒震动式产量：500g加热烘烤：可选溅射源：矩形/圆柱靶占

粉体镀膜设备JGCF350

公司：北京泰科诺科技有限公司

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简介：设备名称：粉体镀膜设备设备型号：JGCF350镀膜方式：磁控溅射真空腔室结构：Φ350mmxH350mm粉体/颗粒尺寸：≥10um物料装载：托盘震动产量：3-10g加热烘烤：可选溅射源：2英寸圆形平面

高真空磁控溅射镀膜设备JCP500

公司：北京泰科诺科技有限公司

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简介：设备型号：JCP500真空腔室结构：立式前开门结构后置抽气系统真空腔室尺寸：Φ500mm×H420mm加热温度：室温～500℃基片台尺寸：Φ150mm膜厚不均匀性：Φ100mm范围内≤±5.0%溅射靶

高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD600

公司：北京泰科诺科技有限公司

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简介：设备型号：TEMD600镀膜方式：E型电子枪真空腔室结构：立式圆柱形侧开门结构，后置抽气系统真空腔室尺寸：Φ600mm×H750mm加热温度：室温～300℃基片台尺寸：平板型Φ350mm，或球罩型基片