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泽攸科技ZEL304G电子束光刻机（EBL）采用场发射电子枪，配合一体化的高速图形发生系统实现对半导体晶圆的高速、高分辨光刻。该系统标配高精度激光干涉样品台，允许用户实现大行程高精度拼接和套刻需求，在新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域发挥重要作用。
产品特色
▲ 激光干涉样品台：先进的激光干涉样品台，满足大行程高精度拼接和套刻需求
▲ 场发射电子枪：高分辨场发射电子枪是光刻质量的重要保证
▲ 图形发生器：在保证超高速扫描的同时实现超高分辨率图案绘制
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