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立式化学气相沉积炉(SiC、BN)
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简介:立式化学气相沉积炉(SiC、BN)产品描述:立式化学气相沉积炉(SiC、BN)可用于材料的表面涂层、基体改性、复合材料制备等应用范围:外延片基座、晶体炉高温耐材、热弯模具、半导体坩埚、陶瓷基复合材料等
卧式真空碳化炉
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简介:卧式真空碳化炉产品描述:设备主要用于浸渍固化处理的碳碳复合材料或碳纤维保温材料、储能材料及其它新型炭材料的碳化处理应用范围:炭/炭刹车盘、炭炭板材、晶体炉坩埚、碳纤维保温材料、碳纸、碳布、石墨烯、碳纳
立式真空碳化炉
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简介:立式真空碳化炉产品描述:设备主要用于浸渍固化处理的碳碳复合材料或碳纤维保温材料、储能材料及其它新型炭材料的碳化处理应用范围:炭/炭刹车盘、炭炭板材、晶体炉坩埚、碳纤维保温材料、碳纸、碳布、石墨烯、碳纳
卧式真空裂解炉
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简介:卧式真空裂解炉产品描述:卧式真空裂解炉可用于碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、碳化硅纤维的高温裂解工艺。应用范围:碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、SiC纤维等技术特征电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好
立式真空裂解炉
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简介:立式真空裂解炉产品描述:立式真空裂解炉可用于碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、碳化硅纤维的高温裂解工艺。应用范围:碳陶复合材料、陶瓷基复合材料、SiC纤维等技术特征电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好
卧式真空石墨化炉
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简介:卧式真空石墨化炉产品描述:卧式真空石墨化炉主要用于碳碳复合材料、碳纤维保温材料、储能材料或其他新型炭材料等高温石墨化处理。应用范围:炭/炭刹车盘、炭炭板材、晶体炉坩埚、热压模具、高温发热体/紧固件、热
立式真空石墨化炉
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简介:立式真空石墨化炉产品描述:立式真空石墨化炉主要用于碳碳复合材料、碳纤维保温材料、储能材料或其他新型炭材料等高温石墨化处理。应用范围:炭/炭刹车盘、炭炭板材、晶体炉坩埚、热压模具、高温发热体/紧固件、热
真空浸渍炉
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简介:真空浸渍炉产品描述:真空浸渍炉主要用于陶瓷基复合材料的聚碳硅烷液相真空浸渍处理应用范围:陶瓷基复合材料真空浸渍炉技术特征电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好;电阻炉采用顶立科技专属超高温、大电流引
碳化硅烧结炉(卧式)
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简介:碳化硅烧结炉(卧式)产品描述:主要用于半导体领域的碳化硅陶瓷制品的真空烧结、气氛烧结。应用范围:碳化硅陶瓷平台、导轨、方镜、反射镜、晶舟、桨、炉管、吸盘、卡盘、机械臂、聚焦环、刻蚀环、流化床反应容器等
氮化硅压力烧结炉(卧式)
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简介:氮化硅压力烧结炉(卧式)产品描述:氮化硅压力烧结炉(卧式)主要用于半导体领域氮化硅陶瓷制品的真空烧结和气压烧结等。应用范围:氮化硅陶瓷球、轴承、导热基板、平台、导轨、刀具、结构件等。氮化硅压力烧结炉(
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