高温立式炉

主要特点

　　VT系列立式真空管式炉采用硅钼棒进行加热，专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结，**温度可以达1600℃，采用双层壳体结构，使得壳体表面温度小于65，高纯度氧化铝纤维作为炉膛保温材料，主要应用领域如碳纳米管生长，陶瓷烧结退火，单晶生长等。

技术参数

额定功率	4KW
额定电压	AC 208-240V 50/60 Hz
**温度	1600℃（1 hour）
持续工作温度	500-1550℃
推荐升温速率	≤10℃/min
炉管尺寸	刚玉管φ100*1200mm
温区数量	两个独立温区
加热区长度	760mm
恒温区长度	400mm
控温方式	模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能
触摸屏尺寸	7寸
控温精度	±1℃
加热元件	8根U型硅钼加热棒
法兰	折页法兰
标准配置	刚玉管1根，氧化铝管堵2只，不锈钢密封法兰1套，硅胶密封圈2 套，高温手套1副，坩埚钩1支
认证标准	CE