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简介：BTF-1200C-VF真空井式坩埚炉,集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品，能

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简介：技术参数设备型号：GJL（G）-06GJL（G）-09GJL（G）-15GJL（G）-35**温度：1650℃1650℃1650℃1650℃使用温度：RT～1600℃RT～1600℃RT～1600℃R

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简介：本设备是由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。二、真空井式坩埚炉参数说明型号QSH-V

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井式炉

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