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真空井式坩埚炉
地址:上海
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简介:本设备是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。二、真空井式坩埚炉参数说明型号QSH-V
真空井式坩埚炉 BTF-1200C-VF
地址:安徽
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简介:BTF-1200C-VF真空井式坩埚炉,集控制系统与炉膛为一体。其炉膛保温材料采用整体真空吸附成型,程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统,可以在流动气氛和真空状态下快速加热样品,能
高温井式坩埚炉 BTF-1400C-VF-D
地址:安徽
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简介:设备特点炉管为单端封口刚玉管,外径¢100m。炉管竖起来放置于炉膛内,上部端口配有水冷折页法兰,并配有压力真空表,配有一个进气口和出气口以及一个KF25接口、KF16接口;气体通过进气口进入刚玉内管通
简介:设备特点:集控制系统与炉膛为一体,炉膛使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用电阻丝为加热元件。专为高等院校、科研所及工矿企业对金属,飞金属及其他化合物料在气氛或真空状态下进行快速烧结、融化、分析而研制的
井式坩埚炉
地址:上海
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简介:本设备是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。
井式坩埚炉
地址:安徽
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简介:设备特点:(1)保温材料采用真空吸附成型的氧化铝纤维无机材料,环保节能。(2)采用模糊PID控制,控温精度可达±1℃。(3)炉体采用双层风冷机构,炉子烧到最高温度时,壳体表面温度低于60℃。(4)采用
真空井式坩埚炉 1600℃
地址:上海
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简介:一、真空井式坩埚炉简介本设备是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。二、真空井式坩埚炉
井式炉LFT-1200C-CT
地址:安徽
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简介:主要特点:此设备是集控制系统与炉膛为一体,炉膛是使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料,采用电阻丝为加热元件,最高发热温度可达1200℃。采用双层壳体结构,配有风冷系统,使得壳体表面的温度小于60度。炉膛材料
HWF6630-10型罐式气相沉积炉
地址:安徽
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简介:一、设备名称、型号:HWF6630-10型罐式气相沉积炉二、技术指标与基本配置2.1额定温度:750℃;2.2**温度:1000℃;2.3加热区尺寸:Φ660×300mm(D×H);2.4腔体材质:S
GZ-井式炉
地址:陕西
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简介:GZ-井式炉是罡正窑炉针对长轴类、杆类零件热处理需求开发的定制化设备,尤其适用于稀土材料煅烧、高温合金回火等工艺。其设计兼顾工业规模化生产与实验室中试需求,可根据客户工件尺寸(如直径700mm、长度1
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