供应中心_发布供应_供应信息_采购中心

GKS系列扩散炉

公司：合肥高歌先进电炉装备有限公司

地址：安徽

我要询价

拨打电话

简介：应用领域GKS系列扩散炉主要应用于半导体材料的扩散、氧化工艺，同时也用于石英制品的退火、稀有金属粉末和发光材料的煅烧等工艺。设备型号：GKS(D)-09/90/3GKS(D)-18/110/3GKS(

GZL系列中温箱式电阻炉

公司：合肥高歌先进电炉装备有限公司

地址：安徽

我要询价

拨打电话

简介：应用领域GZL系列中温箱式炉广泛应用于电子元件、磁性材料、粉末冶金等产品的排胶、预烧和烧成工艺，还可用于其它材料的热处理工艺。

1200℃预加热滑动双温区/多温区PECVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品应用： PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成： PECVD系统配置： 1

1200℃双温区CVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品用途：此款CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。产品组成：此款CVD系统配置： 1.12

1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。产品组成：CVD系统配置：1.1200度开启式真空管式炉（可

1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。产品组成：CVD系统配置：1.120

1200度小型PECVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成PECVD系统配置；1.1200度开启式滑

1200℃集成型自动小型PECVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。PECVD系统配置；1.1200度开启式滑动单温区

1200℃滑动双温区/多温区PECVD系统

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：产品用途：产品专业性：PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成：PECVD系统配置：1.1

RTP-滑动式快速退火炉

公司：天津中环电炉股份有限公司

地址：天津

我要询价

拨打电话

简介：RTP-滑动式快速退火炉产品应用：该系列电炉采用红外灯管加热，通过滑动炉体实现快速升降温。应用在半导体、纳米技术、碳纤维、石墨烯生长等新型材料工艺领域。也同样适用于要求升降温速度比较快的气氛烧结、真空