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氧化铝抛光液 MYH-APS08

公司：铭衍海（常州）微电子有限公司

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简介：氧化铝抛光液MYH-APS08一、氧化铝抛光液简介氧化铝抛光液（也称纳米氧化铝抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精密研磨抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后

氧化铝抛光液 MYH-APS150

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简介：氧化铝抛光液MYH-APS150一、氧化铝抛光液MYH-APS150简介氧化铝抛光液MYH-APS15是光通讯、精密金属加工等领域的核心耗材，尤其在光纤器件、不锈钢制品精密加工中发挥关键作用，核心作用

氧化铈抛光液 MYH-COPST

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简介：氧化铈抛光液MYH-COPST产品详情MYH-COPST是MYHMICRO（铭衍海）出品的纳米氧化铈水性抛光液，专为光学玻璃、半导体、显示面板、汽车玻璃等硬脆材料超精密平坦化设计，核心优势为高去除速率

氧化硅抛光液MYH-SOP20

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP20MYH-SOP20是铭衍海（MYHMICRO）专为中精抛/次终抛开发的20nm高纯胶体二氧化硅抛光液，平衡高去除率与优异表面质量，适配半导体、光学、显示、蓝宝石、陶瓷等多

氧化硅抛光液 MYH-SOP240

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP240一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现超大余量硬脆材料表面

氧化硅抛光液 MYH-SOP160

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP160一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现高硬度硬脆材料表面大

氧化硅抛光液 MYH-SOP150

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP150一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现硬脆材料表面高效大余

氧化硅抛光液 MYH-SOP100

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP100一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面高效精密平坦

氧化硅抛光液 MYH-SOP40

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加

氧化硅抛光液 MYH-SOP05

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简介：氧化硅抛光液MYHSOP05一、产品简介MYHSOP05是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型CMP抛光耗材。产品以5nm单分散球形纳米SiO₂为磨料，采用