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碳化硅抛光液 MYH-SCPS500

公司：铭衍海（常州）微电子有限公司

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简介：碳化硅抛光液MYH-SCPS500碳化硅抛光液简介碳化硅抛光液MYH-SCPS500是第三代半导体碳化硅材料加工的核心精密抛光耗材，通过化学机械协同抛光，实现碳化硅晶片/器件表面原子级平坦化，精准控制

金刚石抛光液 MYH-DPS500

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简介：金刚石抛光液MYH-DPS500金刚石抛光液简介金刚石抛光液MYH-DPS500是铭衍海针对高端精密制造研发的超精细抛光耗材，以高纯度微米级金刚石微粉为核心磨料，搭配定制化复合体系制成，核心作用是对硬

金刚石抛光液 MYH-DPS200

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简介：金刚石抛光液MYH-DPS200金刚石抛光液简介金刚石抛光液MYH-DPS200是以高纯度纳米金刚石微粉为核心磨料，搭配精准配比的分散、润滑、冷却体系制成的精密加工核心耗材，核心作用是通过超精密抛光加

金刚石抛光液 MYH-DPS80

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简介：金刚石抛光液MYH-DPS80产品简介金刚石抛光液MYH-DPS80是精密制造核心抛光耗材，以高纯度金刚石微粉为核心磨料，通过精密磨削抛光，精准控制工件表面粗糙度，实现镜面级抛光效果，消除加工划痕、微

氧化硅抛光液 MYH-SOP480

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP480产品简介铭衍海氧化硅抛光液MYH-SOP480为光通信+半导体双领域超精密抛光核心耗材，核心成分为电子级高纯度超细纳米氧化硅磨粒，依托柔性抛光原理，可实现光学器件端面原

氧化硅抛光液 MYH-SOP420

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP420产品简介铭衍海MYH-SOP420是半导体制程CMP工艺核心抛光耗材，核心为电子级高纯度纳米球形氧化硅磨粒，依托化学机械抛光协同特性，实现硅晶圆、介质层、金属互连层纳米

氧化铈抛光液 MYH-COPS20

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简介：氧化铈抛光液MYH-COPS20一、氧化铈抛光液简介氧化铈（CeO₂）抛光液是精密抛光领域的核心耗材，核心作用是借助氧化铈磨料的化学活性与物理切削性能，对各类玻璃、半导体等材质进行高精度抛光处理，实现

氧化铈抛光液 MYH-COPS40

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简介：氧化铈抛光液MYH-COPS40一、氧化铈抛光液简介氧化铈（CeO₂）抛光液是精密抛光领域的核心耗材，核心作用是通过化学机械抛光（CMP）工艺，对各类材质表面进行精密研磨抛光，实现高平坦化、高洁净度的

氧化铈抛光液 MYH-COPS05

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简介：氧化铈抛光液MYH-COPS05一、氧化铈抛光液简介氧化铈抛光液是精密光学与电子制造领域的核心抛光耗材，依托氧化铈磨料优异的化学机械抛光性能，对各类硬质脆性材料进行高精度表面处理，实现工件表面平整光洁

氧化铈抛光液 MYH-COPS10

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简介：一、氧化铈抛光液简介氧化铈抛光液（也称纳米氧化铈抛光浆料）是半导体芯片晶圆制造过程中的关键耗材，核心作用是通过化学与机械协同作用的精密抛光，实现晶圆表面的全局均匀平坦化，确保晶圆表面达到后续光刻、沉积