? 产品定位与核心特点
| 属性 | 参数与说明 |
|---|---|
| 产品型号 | LP-M2 (LPLP-M2) |
| 产品定位 | 实验室级微量样品处理平台，处理量比标准型LP-4更小，主要用于珍贵、稀缺样品的粉碎。 |
| 核心适用 | 陶瓷、矿石、玻璃、颜料等无机材料的精细粉碎、均匀混合与分散。 |
| 工作原理 | 行星式旋转 (公转+自转)，离心力驱动研磨球对物料进行高能碰撞与剪切。 |
⚙️ 主要性能参数
| 参数分类 | 具体项目 | 规格参数 |
|---|---|---|
| 研磨罐系统 | 研磨罐数量 | 标配2个，可定制4个 |
| 单罐容量 | 45ml | |
| 单罐处理量 | ≤ 10g 或 ≤ 20ml | |
| 适配进料粒径 | **约 5mm 或更小 | |
| 研磨性能 | 转盘**转速 (公转) | 600 rpm |
| 出料粒度 | 可至亚微米级 (0.1-1μm) | |
| 研磨介质 (球) | 建议搭配Φ 15/12/10 mm 研磨球 | |
| 电气参数 | 电源 | 单相 AC 100V ±10% (50/60Hz) |
| 电机功率 | 200W | |
| 物理规格 | 外形尺寸 (W×D×H) | 500 × 300 × 350 mm |
| 重量 | 约 30 kg |
?️ 可选附件与扩展应用
| 类别 | 说明 |
|---|---|
| 安全与控制 | 采用数字减法式计时器，*长可设置99小时59分钟。 |
| 罐体与防污染 | 1. 气密式设计：支持干法/湿法研磨。 2. 多材质选择：研磨罐及研磨球可选玛瑙、部分稳定氧化锆、高氧化铝、钨钢等材质，以防止污染。 3. 可定制气体置换阀：可选配，用于在惰性气体（如氮气）中研磨，防止样品氧化。 |
| 扩展系列 | 同一平台拥有LP-M2C (冷却型) 和LP-M2H (加热型)，以满足对温度敏感的样品处理需求。 |
综合来看，LP-M2的定位非常明确：它是一款专为微量、珍贵样品设计的实验室级行星式球磨机，以其高度灵活性和紧凑设计，满足多样化的前沿科研需求。当然，作为一款桌面设备，其总处理量（<40ml）和高昂的单次处理成本是其显著约束。
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