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Mo 钼靶材
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简介:1、产品信息货号厚度纯度(%)形貌颜色RDB-BC-Mo可定制99.9靶材灰白色或银灰色2、产品规格定制3、产品概述Mo(钼)靶材是一种用于物理蒸发沉积和物理气相沉积的材料,通常用于制备薄膜和涂层。钼
W 钨靶材
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V 钒靶材
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In 铟靶材
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Hf 铪靶材
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简介:1、产品信息货号厚度纯度(%)形貌颜色RDB-BC-Hf可定制99.9靶材灰白色或银灰色2、产品规格定制3、产品概述Hf(铪)靶材是一种用于物理蒸发沉积和物理气相沉积的材料,通常用于制备薄膜和涂层。铪
Zr 锆靶材
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Nb 铌靶材
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简介:1、产品信息货号厚度纯度(%)形貌颜色RDB-BC-Nb可定制99.9靶材灰白色或银灰色2、产品规格定制3、产品概述铌(Nb)靶材是一种用于物理蒸发沉积和物理气相沉积的材料,通常用于制备薄膜和涂层。铌
Ta 钽靶材
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简介:1、产品信息货号厚度纯度(%)形貌颜色RDB-BC-Ta可定制99.9靶材金属灰色或银灰色2、产品规格定制3、产品概述钽(Ta)靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺,主要应用于制备具有高温
C 石墨靶材
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简介:1、产品信息货号厚度纯度(%)形貌颜色RDB-BC-C可定制99.9靶材黑色或深灰色2、产品规格定制3、产品概述石墨(C)靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺,主要应用于制备碳薄膜、导电薄
Si 硅靶材
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简介:1、产品信息货号厚度纯度(%)形貌颜色RDB-BC-Si可定制99.9靶材深蓝色或者灰色2、产品规格定制3、产品概述硅(Si)靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺,主要应用于制备半导体材料
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