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氮化硅合成炉
地址:上海
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简介:氮化硅粉体合成炉一、产品介绍1、氮化硅粉体合成炉是应用于氮化法合成氮化硅粉的专用真空炉。2、2024年,由我司制造的两台氮化硅粉体合成炉,目前正在江西某新材料公司,生产的氮化硅粉纯度≥99.99%,达
实验型石墨化炉
地址:上海
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简介:一、设备简介本设备为实验型石墨化炉,主要用于石墨烯膜,碳纸,PI膜等材料的实验室工艺验证。二、设备优势(1)设备内电极采用铝材质散热器结构,同时采用风冷散热方式,确保(2)该设备具备紧凑的体积设计,使
高真空加热金属装备
地址:上海
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简介:一、设备介绍本设备为高真空退火炉,主要用于金属的退火处理。由炉体、真空系统、电气系统、加热系统组成。二、设备优点1.提高材料性能:通过在高真空环境下进行退火处理,可以有效去除材料中的气体杂质,从而提高
真空感应熔炼炉
地址:湖南
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简介:产品描述:真空感应熔炼技术是一种利用中频感应加热原理,将金属及合金原料在真空条件下完成熔化及精炼的一种特种冶金技术。相较于传统冶金方式,真空感应熔炼技术已逐步发展为适用于生产精密合金、高温合金、耐蚀合
小型手掌真空炉FT-0VAC-30/50
地址:广东
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简介:日本full-tech进口小型手掌真空炉FT-0VAC-30/50日本full-tech进口小型手掌真空炉FT-0VAC-30/50
简介:日本motoyama实验室用真空气电气炉HV-13C日本motoyama实验室用真空气电气炉HV-13C
简介:日本日陶nittokagaku全自动小型高温炉SH-OMT-BSII日本日陶nittokagaku全自动小型高温炉SH-OMT-BSII
HWF80-04N型除氢炉
地址:安徽
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简介:一、设备名称、型号:HWF80-04N型除氢炉二、应用领域:脱碳、除氢、退火、回火、排胶等热处理工艺三、技术指标与基本配置3.1额定温度:350℃(平台时间不限);3.2最高温度:400℃;3.3罐体
HWF80-11Ar型内密封箱式气氛炉
地址:安徽
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简介:1)常用温度:1000℃;2)最高温度:1100℃;3)控温稳定度:±1℃,具有PID参数自整定功能;4)温度均匀度:±5℃,1000℃平台恒温1小时空炉测试,预留检测口;5)最大升温速率:10℃/m
CWF80-05型真空罐式炉
地址:安徽
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简介:一、设备名称、型号:CWF80-05型真空罐式炉二、技术指标与基本配置2.1额定温度:400℃;2.2最高温度:500℃;2.3罐体材料:SUS304;2.4有效尺寸:400×400×500mm(W×
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