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X-FLUXER®三位全自动熔片仪
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简介:KatanaxX-300X-FLUXER是新一代熔片产品,提供的新功能,可获得****的结果。多样品位熔片机可作为1、2或3位使用,用途广泛,可轻松适应现代实验室的需要。通用、紧凑、安全:你值得拥有高
DENS 透射电镜原位样品杆
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简介:DENSsolutions总部位于荷兰,专注于提供先进的原位电子显微镜(In-situTEM)解决方案,致力于开发创新的实验平台和设备,使研究人员能够在电子显微镜下模拟多种实际工作条件,从而实时观察和
简介:SEMPREPSMART离子研磨仪SEMPREPSMART离子研磨仪配备了高能量和可选的低能量氩离子枪。这款设备是用于扫描电子显微镜(SEM)和电子背散射衍射(EBSD)样品的*终加工和清洁的理想选择
【新品】GIB 精修离子束系统
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简介:GIB精修离子束系统用于扫描电镜/双束电镜的氩离子束方案TechnoorgLinda的低能氩离子枪(GIB)适用于表面减薄、其他表面处理后的后处理、清洁以及去除无定形和氧化物表面层。当低能氩离子枪集成
磁控蒸发复合镀膜机JCPF2600
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简介:设备型号:JCPF2600镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:SUS304方箱式真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm极限真空:优于5.0x10-5Pa基片台尺寸:300mmx400mm
钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZDF3200
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简介:镀膜方式:蒸发腔室结构:方箱式工艺室尺寸:L1900mmxH2200mmxW550mm进样室:500mm×600mm×400mm过渡室:500mm×600mm×400mm极限真空:6×10-5pa基片
钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZHDS400
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简介:设备型号:ZHDS400镀膜方式:金属+有机蒸发真空腔室结构:SUS304方箱式,配有前、后门真空腔室尺寸:L400mmxW440mmxH450mm加热温度:室温-300℃(选配)基片台尺寸:抽屉式:
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
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简介:基片台尺寸:抽屉式:150mm×120mm可旋转、升降膜厚不均匀性:≤±5.0%(120mmx120mm范围内)溅射靶:6英寸3只溅射靶电源:1台RF,2台DC控制方式:PLC/PC控制(可选)占地面
电阻蒸发镀膜设备ZHD300
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简介:设备型号:ZHD300镀膜方式:多源金属蒸发真空腔室结构:玻璃钟罩+不锈钢底座真空腔室尺寸:Φ300mm×H360mm加热温度:室温~250℃基片台尺寸:Φ100mm膜厚不均匀性:Φ80mm范围内≤±
电阻蒸发镀膜设备ZHD400
地址:北京
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简介:设备型号:ZHD400镀膜方式:多源蒸发镀膜真空腔室结构:立式方形前开门结构真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm加热温度:室温~300℃基片台尺寸:120mm×120mm膜厚不均匀性
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