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1200℃台式箱式炉（7.2L）

公司：长沙米淇仪器设备有限公司.

地址：湖南

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简介：该款箱式炉以瑞典康耐尔电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温。K型热电偶，炉膛采用氧化铝微晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷循环系统，**温度能达到1200℃，可连续工作1100℃，控温精度

1200℃小型箱式炉（4.2L）

公司：长沙米淇仪器设备有限公司

地址：湖南

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简介：MITR-1200X-4.2L是一款小型箱式炉，其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L)，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，炉膛表面涂有高温氧化铝涂层，以保持炉膛洁净，延长仪器使用寿命和提

1200℃小型箱式炉（4.2L）

公司：长沙米淇仪器设备有限公司.

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简介：MITR-1200X-4.2L是一款小型箱式炉，其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm(4.2L)，采用高纯氧化铝作为炉膛材料，炉膛表面涂有高温氧化铝涂层，以保持炉膛洁净，延长仪器使用寿命和提

OTF-1200X-25-60小型管式炉

公司：长沙米淇仪器设备有限公司.

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简介：OTF-1200X-25-60、OTF-1200X-50-60是一款小型管式炉，其**工作温度为1200℃，额定功率为1200W。炉管可配置为1"或2"的高纯石英炉管，炉管两端已安

扩散氧化炉

公司：湖南烁科热工智能装备有限公司

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简介：扩散氧化炉扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结等工艺。水平管式炉的设计考虑了硅片生产的多种工艺性

8”立式炉

公司：湖南烁科热工智能装备有限公司

地址：湖南

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简介：8”立式炉设备型号：M51200-1/UM 主要用于半导体器件制程中的掺杂、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉积等工艺。技术参数：主要用于半导体器件制程中的掺杂、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉积等工

组合式四通道箱式炉

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：设备特点：此款设备由4台1200℃3.4L箱式炉组合而成，且相互独立控制，可同时进行平行实验，整机液晶屏集中管理，操作简便,无纸记录。设备的在**优势：功能强大体积小，很好的解决了实验室空间紧张的问题

1700℃ 36L 高温箱式炉

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点MainfeaturesHeatinsulatingmaterialsadoptAluminafiberinorganicones,whichisformedwithvacuumabsorpt

1700℃ 18.7L 高温箱式炉

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点MainfeaturesHeatinsulatingmaterialsadoptAluminafiberinorganicones,whichisformedwithvacuumabsorpt

1700℃ 12L高温箱式炉

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点MainfeaturesHeatinsulatingmaterialsadoptAluminafiberinorganicones,whichisformedwithvacuumabsorpt