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卧式化学气相沉积炉(SiC、BN)
地址:湖南
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简介:卧式化学气相沉积炉(SiC、BN)技术特征采用先进的控制技术,能精密控制MTS的流量和压力,炉膛内沉积气流稳定,压力波动范围小;全密闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;多通道工艺气路,流场均匀,无沉积
立式化学气相沉积炉(沉积炭)
地址:湖南
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简介:立式化学气相沉积炉(沉积炭)技术特征电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好;采用智能压力调控,压力波动小;全封闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;多通道工艺气路,流程均匀,无沉积死角,沉积效果好;多
卧式化学气相沉积炉(沉积炭)
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简介:卧式化学气相沉积炉(沉积炭)技术特征电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好;采用智能压力调控,压力波动小;全封闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;多通道工艺气路,流程均匀,无沉积死角,沉积效果好;多
控制柜
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简介:计算机监控窑炉温度,日本岛电温控仪表仿威图控制柜表面喷塑处理,计算机灰颜色
高温推板炉
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简介:全液压推进计算机自动控制炉膛温度,监测窑炉运行情况设备尺寸按照用户要求设计炉膛温度1650度可用于氧化铝陶瓷基板烧成
真空气氛炉
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简介:真空气氛试验炉**温度1400适用于企业、高校、科研院所等多品种小产量产品烧成
箱式炉
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简介:箱式试验炉最高温度1400适用于企业、高校、科研院所等多品种小产量产品烧成
组合推板炉(AB炉)
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简介:液压推进AB窑炉组合,A窑炉排胶,B窑炉烧成占地面积小最高温度1350适用于压电陶瓷、避雷器阀片等烧成
双排网带炉
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简介:炉芯管采用耐高温不锈钢整体密封焊接传动系统平稳可靠(系我公司专利技术),炉膛气氛满足生产工艺要求设备尺寸可依据用户工艺要求进行设计**炉温950℃适用范围:压电陶瓷烘银、电子材料、催化剂等的生产
回转炉
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简介:用途粉体烧结**温度1000℃炉膛尺寸(参考值)L10000×Ф(100-1800)mm保护气氛Air,N2,H2加热元件高温电热合金丝
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