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VTF-真空垂直管式炉
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简介:VTF-真空垂直管式炉典型应用玻璃绝缘子、硅酸铁片等类似产品的高温烧结、热处理工艺,也可用于金属管壳介电陶瓷在二元气氛下的烧结工艺。参数及特点:◆额定温度:450℃Chitherm◆炉管尺寸:中100
HRF-热风排胶炉.
地址:安徽
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简介:HRF-热风排胶炉典型应用广泛用于LTCC、MLCC排胶工艺;参数及特点:◆额定温度:400℃;◆有效尺寸:550x660x640mm(W*H*D);◆温度均匀性:+3℃:◆设备外形紧凑,占地面积小。
HRF-热风箱式炉
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简介:HRF-热风箱式炉典型应用粉体材料、磁性材料、陶瓷、玻璃、金属、塑料及3D打印后的干燥、固化、排胶、回火、退火、老化、预热和时效硬化。参数及特点:◆额定温度:500/750℃;◆有效尺寸:800x80
HBF-高温箱式炉
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简介:典型应用磁性材料、电子元器件、功能陶瓷、结构陶瓷等产品的排胶、烧结工艺参数及特点:◆额定温度:1400/1600℃;◆有效尺寸:350×400×500mm(W×H×D);◆温度均匀性:±5℃;◆硅碳棒
HBF-HTCC高温气氛箱式炉
地址:安徽
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简介:HBF-HTCC高温气氛箱式炉典型应用氧化铝陶瓷基板与WMo、Mo-Mn浆料在高温气氛环境下的排胶、烧结工艺参数及特点:额定温度:1650℃;◆有效尺寸:400x400*500mm(W*H*D);◆温
BF-高温钟罩炉
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简介:BF-高温钟罩炉典型应用ITO靶材、陶瓷滤波器、氧化锆陶瓷插芯、陶瓷手机外壳、智能穿戴陶瓷件、CIM(陶瓷注射成型)等先进陶瓷材料的高温烧结工艺。参数及特点:◆额定温度:1650℃;◆有效尺寸:750
MBF-中温洁净箱式炉
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简介:MBF-中温洁净箱式炉典型应用微波铁氧体、电子器件、陶瓷、磁性材料烧结工艺。参数及特点:◆额定温度:1000℃;◆有效尺寸:350x300*550mm(W*H*D);◆温度均匀性:±3℃;◆轻质保温材
HWF-真空气氛罐式炉
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简介:HWF-真空气氛罐式炉典型应用CIM/MIM脱脂处理、金属热处理行业、金属增材制造领域的退火、淬火、灼烧、除气,热分解、热力排胶、干燥等工艺。参数及特点:◆额定温度:1000℃;◆有效尺寸:400*4
HSF-热风梭式炉
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简介:HSF-热风梭式炉全不锈钢炉膛;独特热风循环有效保证气氛均匀
HPF-真空热板炉
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简介:电子元器件在真空及气氛保护环境下的干燥、排胶、除湿铝板内置不锈钢加热管,均匀度±3℃;极限真空10pa;进口温控模块+触摸屏集中控制,可实现工艺编程、存储
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