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碳化钽涂层CVD炉
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简介:半导体装备的石墨或陶瓷碳化钽涂层生产,具有送粉均匀、涂层均匀致密、涂层与基底结合良好、自动化程度高、可一键启动等特点。
碳化硅涂层CVD炉
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简介:应用于半导体装备的石墨或陶瓷碳化硅涂层生产,具有工艺气体控制精度高、涂层均匀致密、涂层与基底结合良好、自动化程度高、可一键启动等特点。
磷酸锰铁锂烧结回旋炉
地址:陕西
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简介:设备用途:磷酸锰铁锂等在可控氮气气氛下的煅烧过程。设备参数:配置参数(按需)配置参数(按需)炉管材质:310S温控精度:±2℃设备直径:0.5m-2m干燥气氛:氮气气氛炉管长度:3m-20m进料含水率
中试回旋炉
地址:陕西
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简介:设备用途:应用于中小型连续式实验验证过程,通过实验获取大生产工艺参数,可根据基础要求进行订制设计。。设备参数:配置参数(按需)配置参数(按需)炉管材质:304/316L/310S温控精度:±2℃设备直
实验室间歇式回转炉
地址:陕西
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简介:设备用途应用于粉体材料的干燥、高温分解、氧化还原反应、烧结、晶型转变等,物无强酸碱腐蚀,且煅烧过程无严重粘接。设备参数配置参数(按需)配置参数(按需)炉管材质:316L/310S温控精度:±2℃设备直
三元干燥回转炉
地址:陕西
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简介:设备用途:三元材料在空气气氛下的低温干燥过程。设备参数:配置参数(按需)配置参数(按需)炉管材质:316L温控精度:±2℃设备直径:0.5m-2m干燥气氛:空气气氛炉管长度:3m-20m进料含水率:≤
氢氧化锂干燥回转炉
地址:陕西
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简介:设备用途:氢氧化锂等盐类在空气气氛或氮气气氛环境下的干燥脱水。设备参数:炉管材质:316L/304温控精度:±2℃设备直径:0.5m-2m干燥气氛:空气气氛/氮气气氛炉管长度:3m-20m进料含水率:
磷酸铁锂煅烧回旋炉
地址:陕西
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简介:设备用途:磷酸铁锂等在可控氮气气氛下的煅烧过程。设备参数:配置参数(按需)配置参数(按需)炉管材质:310S温控精度:±2℃设备直径:0.5m-2m干燥气氛:氮气气氛炉管长度:3m-20m进料含水率:
磷酸铁干燥回转炉
地址:陕西
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简介:设备用途:磷酸铁等盐类在自然空气气氛或可控纯净空气环境下的干燥脱水。设备参数:炉管材质:316L温控精度:±2℃设备直径:0.5m-2m干燥气氛:空气气氛炉管长度:3m-20m进料含水率:≤22%加热
碳酸锂干燥回转炉
地址:陕西
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简介:设备用途:碳酸锂等盐类在自然空气气氛或可控纯净空气环境下的干燥脱水。设备参数:炉管材质:316L温控精度:±2℃设备直径:0.5m-2m干燥气氛:空气气氛炉管长度:3m-20m进料含水率:矿锂≤8%,
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