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1600℃多温区梯度管式电炉
地址:天津
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简介:一、操作便捷性:1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性:1
简介:产品应用: PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。 产品组成: PECVD系统配置: 1
1200℃双温区CVD系统
地址:天津
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简介: 产品用途: 此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。 产品组成: 此款CVD系统配置: 1.12
简介:产品用途:此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。产品组成:CVD系统配置:1.1200度开启式真空管式炉(可
简介:产品用途:此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结真空淬火退火,快速降温等工艺实验。产品组成:CVD系统配置:1.120
1200度小型PECVD系统
地址:天津
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简介:产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成PECVD系统配置;1.1200度开启式滑
1200℃集成型自动小型PECVD系统
地址:天津
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简介:产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。PECVD系统配置;1.1200度开启式滑动单温区
1200℃滑动双温区/多温区PECVD系统
地址:天津
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简介:产品用途:产品专业性:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成:PECVD系统配置:1.1
RTP-滑动式快速退火炉
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简介:产品应用:该系列电炉采用红外灯管加热,通过滑动炉体实现快速升降温。应用在半导体、纳米技术、碳纤维、石墨烯生长等新型材料工艺领域。也同样适用于要求升降温速度比较快的气氛烧结、真空淬火退火及CVD等工艺实
1800℃不锈钢节能箱式电炉
地址:天津
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简介:不锈钢箱炉产品特点:美观大方一一外壳材质品牌优选,采用订制不锈钢压花板;设计新颖一一独特的结构设计,表面无焊点、无加工痕迹;绿色环保一一无喷涂、不含有机物,材料环保可靠;节能高效一一新型材料更省电,温
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