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间歇式CVD回转炉
地址:安徽
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简介:一、产品特色1、该款设备由控制柜和加热炉组成,控制柜为密封壳体,内置电路板和气路板,外部可通过触摸屏及手阀操控电路和气路;加热炉由一台三温区开启式管式炉及相应配件组成,炉管可回转;2、加热炉左端法兰是
简介:一、产品特色该款设备是全自动Plasma增强PECVD系统,连续可控温度以及Plasma强度等,配备真空系统,可以低压条件下进行实验,PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区,辉光相对均匀等效,
实验回转炉
地址:江西
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简介:一、设备特点设备占地面积小,2500*1400mm;操作简单,各种功能集成至操作屏,一键启停;最高工艺温度950℃,满足各种工艺需求;具备快速降温功能,无需长时间等待。二、技术参数有效装料量:20L最
1400℃多功能回转CVD系统
地址:安徽
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简介:一、产品特色1、此款设备提供一个双温区的温场,两个温区可独立控制。2、保温材料采用氧化铝纤维防尘处理,炉膛可开启。3、加热元件采用硅碳棒,最高使用温度可以达到1400度,使用寿命长,温场流场均匀。4、
硅碳负极流化床气相沉积炉
地址:江西
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简介:一、设备简介碳基前驱体添加到流化床沉积炉内,通入高温气体,硅烷高温裂解,沉积在多孔碳的表面,得到包覆改性物料,相比传统CVD炉气固相接触充分,包覆硅时包覆层比传统工艺更均匀,反应区的温度控制均匀,温度
连续回转CVD系统
地址:安徽
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简介:产品特色1、三段电阻丝加热炉,加热温区300+300+300,上下6点独立控温,温场均匀性好;2、设备两端配有磁流体密封法兰,确保炉管能在真空条件下进行转动;3、设备配有螺旋上料机构,上料电机转速可调
1200℃连续进出料回转CVD系统
地址:安徽
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简介:一、结构简介1、该款CVD设备配备加热系统、进料系统、出料系统、触摸屏控制系统、气路系统、真空系统、平台升降装置等;2、设备炉管可360°旋转,有助于粉料的烧结更均匀,可大角度倾斜,方便进出料,倾斜角
RTF-洁净回转炉
地址:安徽
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简介:典型应用高洁净石英回转炉管,用于高端粉体材料(ITO前驱体等粉体、颗粒状材料)的热处理工艺。参数及特点◆额定温度:900℃;◆炉管尺寸:Φ300×4000mm;◆温区个数:6个;◆特殊螺旋炉管设计保持
自动回转进料PECVD设备
地址:安徽
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简介:产品特点:1.该设备炉管可360度旋转,管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结更均匀;2.可左右大角度倾斜,方便出放料,倾斜角度在0~35°之间。3、广泛应用于电池正负极材料,无强酸碱性粉体材料,颗粒
1400系列真空管式回转炉
地址:安徽
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简介:设备特点:LFT1400C600D60IIIRS三温区开启式真空回转管式炉最高温度可达1400℃,该设备采用双层风冷结构,炉体表面温度≤60℃,炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。。加热元件
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