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大口径动态plasma辅助法卷对卷式石墨烯制备设备

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

地址：安徽

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简介：一、设备简介：该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，RF射频电源模块，石英管，冷却装置，收放

小型回转PECVD系统

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：一、主要特点1、该设备炉管可360度旋转，管内壁有石英挡片帮助粉料翻转有助于烧结得更均匀;2、可左右大角度倾斜，方便出放料，倾斜角度在0~35°之间;3、该款设备是全自动Plasma增强CVD系统(P

等离子体增强回转PECVD系统

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：一、主要特点我司研制的回转PECVD系统能使整个实验腔体都处于辉光产生区，辉光均匀等效，这种技术很好的解决了传统等离子工作不稳定状态，这样离子化的范围和强度是传统PECVD的百倍，并解决了物料不均匀堆

非气态源化学气相沉积系统

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：一、主要特点此款设备由电动滑轨式管式炉、三路供气系统、真空及过滤系统、前驱体鼓泡装置，气体预热装置、软件控制等部分组成。适用于前驱体为非气态源，如固态或液态前驱体，前驱体灌温度可达400℃，且温度独立

先进多功能二维材料生长系统

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点1.此款设备提供两个独立滑动的温场，两温场独立控制，每个温场的加热区的长度为230mm，可在实验过程中推进或推离样品，提供两个位置的快升降温。2.纵向多接口真空法兰设计，各种附加接口具有高度可

磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点此设备特点是将硫粉放于左端冷区，当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作。同样也适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜

二维材料生长CVD系统

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点Mainfeatures前端配有预热炉，可用于蒸发固态源Equippedwithapreheatingfurnaceforevaporatingsolidstatesources加热炉选用滑轨

前端预热法硫化钼制备设备

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：主要特点前端配有可加热到400℃的预加热器，辅助硫粉蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。并配有气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调节阀对于做低压CVD非常实用，重复

八通道管式炉

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：设备特点此款设备为我司研发的新一代产品，将8台管式气氛炉集成与一体，且又能独立控制，可同时进行平行试验;顶上二组管式炉可半盖开启，可透过石英管直接观察样品烧结时的状态;整机液晶屏集中管理，操作简便,无

迷你型双温区管式炉

公司：安徽贝意克设备技术有限公司

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简介：设备特点：1200℃开启式迷你真空管式炉炉体小巧（净重只有18Kg），升温速度极快，它不仅可以抽真空,也可以通气体保护。其结构使得拆装炉管方便，操作简捷，使用者可直接将密封腔体移出炉体，加快降温过程，