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1200度小型PECVD系统
地址:天津
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简介:产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成PECVD系统配置;1.1200度开启式滑
1200℃集成型自动小型PECVD系统
地址:天津
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简介:产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。PECVD系统配置;1.1200度开启式滑动单温区
1200℃滑动双温区/多温区PECVD系统
地址:天津
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简介:产品用途:产品专业性:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成:PECVD系统配置:1.1
RTP-滑动式快速退火炉
地址:天津
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简介:产品应用:该系列电炉采用红外灯管加热,通过滑动炉体实现快速升降温。应用在半导体、纳米技术、碳纤维、石墨烯生长等新型材料工艺领域。也同样适用于要求升降温速度比较快的气氛烧结、真空淬火退火及CVD等工艺实
连续式预氧化炉
地址:湖南
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简介:该类型设备主要用于PAN基、沥青基、黏胶基碳纤维及其毡体材料在可控氧化气氛下的连续预氧化处理。☆炉采用特殊的热风循环和布风方式,可实现炉内温场均匀性≤±1.5℃/m,风场匀性≤±20%;☆采用模块式分
1200加长双温区CVD系统
地址:上海
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简介:简介1200℃加长双温区CVD系统是由加长双温区管式实验电炉,多通道高精度质量流量计混气系统,高真空分子泵系统等组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积、扩散实验。同时上海煜志良好的售后服
1200CVI系统
地址:上海
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简介:主要特点1.独特的管式炉立式设计,满足特殊的实验需求2.配备质量混气系统,满足实验气氛需求3.配备冷凝系统,便于气体产物的分离和收集主要技术参数炉体结构双层炉壳间配有风冷系统,有效保证外壳表面温日本技
1700CVD系统
地址:上海
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简介:简介YG-1706I-CVD系统由YG-1706管式炉、三路浮子混气系统、内置测温系统及真空系统等组成。真空泵采用双极旋片真空泵,真空度可达到5x10-1Torr;内置测温系统可实时监测反应管内的温度
熔盐多样品快速制样炉
地址:上海
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简介:简介本设备采用红外加热方式,可实现*多10个样品快速熔融、结晶过程。特别适用于熔盐组分筛选、调控过程中的多种成分配比样品的制备,除水等工艺。主要技术参数1)工作温度:室温~800℃(炉膛**温度);2
真空感应熔炼炉
地址:上海
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简介:简介YR-17系列真空感应熔炼炉是在真空条件下,利用中频感应加热原理,使金属熔化的真空冶炼成套设备。广泛应用于科研和生产单位对镍基及其特殊钢、精密合金、钕铁硼、金属镝、活泼金属、高温合金、储氢材料、磁
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