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高真空磁控溅射镀膜设备JCP500
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简介:设备型号:JCP500真空腔室结构:立式前开门结构后置抽气系统真空腔室尺寸:Φ500mm×H420mm加热温度:室温~500℃基片台尺寸:Φ150mm膜厚不均匀性:Φ100mm范围内≤±5.0%溅射靶
粉体镀膜设备JGCF350
地址:北京
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简介:设备名称:粉体镀膜设备设备型号:JGCF350镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:Φ350mmxH350mm粉体/颗粒尺寸:≥10um物料装载:托盘震动产量:3-10g加热烘烤:可选溅射源:2英寸圆形平面
粉体镀膜设备JGCF800
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简介:设备名称:粉体镀膜设备设备型号:JGCF800镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:Φ800mmxL800mm粉体/颗粒尺寸:≥20um物料装载:滚筒震动式产量:500g加热烘烤:可选溅射源:矩形/圆柱靶占
粉体镀膜设备JGCF1000
地址:北京
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简介:设备名称:粉体镀膜设备设备型号:JGCF1000镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:Φ600mmxL1000mm粉体/颗粒尺寸:≥20um物料装载:槽式震动式,连续进料产量:2000g加热烘烤:可选溅射源
纳米超硬膜涂层设备GDM900
地址:北京
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简介:设备名称:纳米超硬涂层设备设备型号:GDM900真空腔室尺寸:Φ900mm×H930mm真空系统:国产/进口分子泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空:优于8.0×10-5Pa抽速:从大气到5.0×10
纳米超硬膜涂层设备GDM1000
地址:北京
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简介:设备名称:纳米超硬涂层设备设备型号:GDM1000真空腔室尺寸:Φ1000mm×H1200mm真空系统:国产/进口分子泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空:优于8.0×10-5Pa抽速:从大气到5.0
Lattice 系列 高功率X射线
地址:北京
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简介:产品概览Lattice系列高功率X射线衍射仪是一款结合大功率的X射线光源和高探测效率的X射线光子直读二维阵列探测器的桌面型衍射仪,具有极高的数据测量强度。Lattice系列的X射线功率为600/120
可视化监控系统 NT3500
地址:上海
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简介:NivoTec®料位监测及可视化系统NT3500物位帝®UWT基础型配置LED数字显示仪表:支持4-20mA信号处理安装方式:控制柜嵌入式/墙面壁挂式高级型配置触摸屏操作界面:集成可视化软件系统网络服
可视化监控系统 NT4500
地址:上海
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简介:NivoTec®料位监测及可视化系统NT4500物位帝®UWT基础型配置LED数字显示仪表:支持4-20mA信号处理安装方式:控制柜嵌入式/墙面壁挂式高级型配置触摸屏操作界面:集成可视化软件系统网络服
可视化监控系统 NT4600
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简介:NivoTec®料位监测及可视化系统NT4600物位帝®UWT基础型配置LED数字显示仪表:支持4-20mA信号处理安装方式:控制柜嵌入式/墙面壁挂式高级型配置触摸屏操作界面:集成可视化软件系统网络服
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