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激光气体分析仪(防爆型)
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简介:产品名称:激光气体分析仪(防爆型)激光气体分析仪(防爆型)产品概述激光⽓体分析仪(防爆型)由四⽅仪器⾃主研发,采⽤可调谐激光吸收光谱技术(TDLAS),可同时在线测量O2、CO、CO2、H2S、CH4
大面积平板镀膜设备JCPF3500
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简介:设备名称:大面积平板镀膜设备设备型号:JCPF1600~4500真空系统:国产或进口分子泵/低温泵+罗茨泵+机械泵高真空系统极限真空:优于2.0×10-4Pa抽速:从大气到3.3×10-3Pa≤30m
简介:设备名称:多功能磁控离子溅射复合镀膜设备设备型号:TSU650真空腔室结构:立式圆柱形前开门,双层水冷,多通用法兰接口真空腔室尺寸:Φ650mm×H650mm工件架尺寸:Φ490mm,4-6工位公/自
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF1200
地址:北京
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简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF1200真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ1200mmxH1200mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:Φ500m
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF700
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简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF700真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ700mmxH700mm真空系统:高真空泵组系统基片台尺寸:350mm²×3
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF600
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简介:用于生长毫米级金刚石厚膜、纳米晶金刚石涂层或微米晶金刚石涂层、类金刚石膜、氮化硅和氧化硅膜等,在切削刀具、模具、丝锥、BDD水处理电极等表面沉积金刚石薄膜。热丝化学气相沉积金刚石技术,已广泛应用于国内
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
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简介:设备名称:热丝CVD金刚石膜沉积设备设备型号:HF450真空腔室结构:立式前开门结构,后置抽气系统,双层水冷真空腔室尺寸:Φ450mmxH500mm真空系统:复合分子泵高真空系统基片台尺寸:Φ100m
高真空磁控溅射镀膜设备JCPY500
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简介:设备型号:JCPY500真空腔室结构:后置抽气系统真空腔室尺寸:Φ500mm×H450mm带Load-Lock功能支持单片或多片进取样加热温度:室温~500℃基片台尺寸:Φ150mm膜厚不均匀性:Φ1
高真空磁控溅射镀膜设备JCP350
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简介:设备型号:JCP350真空腔室结构:后置抽气系统,气动提开式真空腔室尺寸:Φ350mm×H350mm加热温度:室温~500℃基片台尺寸:Φ120mm
电阻蒸发镀膜设备
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简介:大专院校、科研院所及企业进行薄膜新材料的科研与小批量制备1.设备一体化设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;2.设备配备多组蒸发源,兼容有机蒸发与无机蒸发,多源共蒸获得复合膜。设计专业
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