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1600℃三温区真空气氛管式电炉
地址:天津
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简介:一、操作便捷性:1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性:1
1200℃旋转式真空气氛管式电炉
地址:天津
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简介:一、操作便捷性;1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性;1
1200℃多工位真空气氛管式电炉
地址:天津
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简介:炉体旋转升降,多工位实验;分体式控制器,增加工作空间;电动升降装置,操作方便省力。一、操作便捷性;1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作
1200℃立式双温区管式电炉
地址:天津
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简介:该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于快速热处理和淬火工艺,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操
1400℃立式单温区管式电炉
地址:天津
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简介:该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于快速热处理和淬火工艺,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操
1600℃立式单温区管式电炉
地址:天津
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简介:该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,适用于快速热处理和淬火工艺,应用在半导体,纳米技术、碳纤维等新材料新工艺领域。一、操
1600℃多温区梯度管式电炉
地址:天津
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简介:一、操作便捷性:1、气路连接方式采用了快速连接法兰结构。2、使取放物料过程简化,只需一支卡箍便可完成气路连接,方便操作。3、取消了复杂的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成损坏的可能。二、结构实用性:1
简介:产品应用: PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。 产品组成: PECVD系统配置: 1
1200℃双温区CVD系统
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简介: 产品用途: 此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。 产品组成: 此款CVD系统配置: 1.12
简介:产品用途:此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。产品组成:CVD系统配置:1.1200度开启式真空管式炉(可
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