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氧化硅抛光液 MYH-SOP100

公司：铭衍海（常州）微电子有限公司

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP100一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面高效精密平坦

氧化硅抛光液 MYH-SOP40

公司：铭衍海（常州）微电子有限公司

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简介：氧化硅抛光液MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加

氧化硅抛光液 MYH-SOP05

公司：铭衍海（常州）微电子有限公司

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简介：氧化硅抛光液MYHSOP05一、产品简介MYHSOP05是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型CMP抛光耗材。产品以5nm单分散球形纳米SiO₂为磨料，采用

氧化铝抛光液MYH-APS400

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简介：氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液MYH-APS400是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材，通过氧化铝磨料的温和精密研磨，高

氧化铝抛光液MYH-APS100

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简介：氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件

氧化铝抛光液 MYH-APS80

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简介：氧化铝抛光液MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。精准抛光

氧化铝抛光液MYH-APS05

公司：铭衍海（常州）微电子有限公司

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简介：氧化铝抛光液MYH-APS05一、产品简介：铭衍海（常州）微电子氧化铝抛光液MYH-APS05是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液，以高纯度α-氧化铝为磨料，采用分散技

碳化硅抛光液

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简介：温馨提醒：以上粒径为电镜测试，粒度为马尔文纳米粒度仪测试，如上述规格不符合您要求，我们还可以根据您的要求定制不同浓度，PH的产品。应用场景半导体硅晶圆抛光适用于300mm及以下尺寸硅晶圆的超精密化学机

二氧化硅抛光液

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简介：温馨提醒：以上粒径为电镜测试，粒度为马尔文纳米粒度仪测试，如上述规格不符合您要求，我们还可以根据您的要求定制不同浓度，PH的产品。应用场景半导体硅晶圆抛光适用于300mm及以下尺寸硅晶圆的超精密化学机

金刚石抛光液

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简介：温馨提醒：以上粒径为电镜测试，粒度为马尔文纳米粒度仪测试，如上述规格不符合您要求，我们还可以根据您的要求定制不同浓度，PH的产品。应用场景半导体硅晶圆抛光适用于300mm及以下尺寸硅晶圆的超精密化学机