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高真空电子束蒸发镀膜设备TEMD500
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简介:设备型号:TEMD500镀膜方式:E型电子枪真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统真空腔室尺寸:Φ500mm×H600mm加热温度:室温~300℃基片台尺寸:平板型Φ200mm膜厚不均匀性:
电阻蒸发镀膜设备ZHD400
地址:北京
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简介:设备型号:ZHD400镀膜方式:多源蒸发镀膜真空腔室结构:立式方形前开门结构真空腔室尺寸:L400mm×W440mm×H450mm加热温度:室温~300℃基片台尺寸:120mm×120mm膜厚不均匀性
电阻蒸发镀膜设备ZHD300
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简介:设备型号:ZHD300镀膜方式:多源金属蒸发真空腔室结构:玻璃钟罩+不锈钢底座真空腔室尺寸:Φ300mm×H360mm加热温度:室温~250℃基片台尺寸:Φ100mm膜厚不均匀性:Φ80mm范围内≤±
高真空磁控溅射镀膜设备JCP650
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简介:基片台尺寸:抽屉式:150mm×120mm可旋转、升降膜厚不均匀性:≤±5.0%(120mmx120mm范围内)溅射靶:6英寸3只溅射靶电源:1台RF,2台DC控制方式:PLC/PC控制(可选)占地面
钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZHDS400
地址:北京
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简介:设备型号:ZHDS400镀膜方式:金属+有机蒸发真空腔室结构:SUS304方箱式,配有前、后门真空腔室尺寸:L400mmxW440mmxH450mm加热温度:室温-300℃(选配)基片台尺寸:抽屉式:
钙钛矿太阳能电池蒸发设备ZDF3200
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简介:镀膜方式:蒸发腔室结构:方箱式工艺室尺寸:L1900mmxH2200mmxW550mm进样室:500mm×600mm×400mm过渡室:500mm×600mm×400mm极限真空:6×10-5pa基片
磁控蒸发复合镀膜机JCPF2600
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简介:设备型号:JCPF2600镀膜方式:磁控溅射真空腔室结构:SUS304方箱式真空腔室尺寸:L2600mmxH700mmxW260mm极限真空:优于5.0x10-5Pa基片台尺寸:300mmx400mm
简介:产品介绍BT-9300S激光粒度分析仪是一种实用型的激光粒度仪,它的光学系统(主机)与分散系统各自独立的分体式结构,便于主机与水循环、溶剂循环、微量样品池等不同的分散系统组合,以便适应不同的样品。主机
简介:产品介绍BT-9300ST激光粒度分析仪是一种小型化的、采用双镜头技术的一体型激光粒度仪。它的双镜头光学系统使前向和后向散射光信号都能被有效接收,扩大了测量范围,提高了重复性和和准确性。同时,一体化的
简介:产品介绍BT-9300SE激光粒度分析仪是一种经济型的激光粒度仪,它的光学系统(主机)与分散系统各自独立的分体式结构,便于主机与水循环、溶剂循环、微量样品池等不同的分散系统组合,以便适应不同的样品。B
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