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纳米二硅化钨WSi2
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简介:产品参数产品名称:二硅化钨熔点:2165°CCAS号:12039-88-2分子式:Wsi2密度:9.88(g/cm3)分子量:240.01应用领域1.二硅化钨可用于制造超高温发热元件,在高温炉中为材料
纳米二硅化钇YSi2
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简介:产品参数产品名称:二硅化钇熔点:1520°CCAS号:12067-55-9分子式:Ysi2密度:4.39(g/cm3)分子量:145.08应用领域太阳能电池板、高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极
纳米二硅化钽TaSi2
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简介:产品参数产品名称:二硅化钽熔点:2200°CCAS号:12067-56-0分子式:Tasi2密度:9.14(g/cm3)分子量:237.12应用领域1.电热元件,硅化担具有高熔点和低电阻率,适用于制作
纳米氮化铌NbN
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简介:产品参数熔点:2300°CCAS号:24621-21-4分子式:NbN密度:8.47(g/cm3)分子量:106.913应用领域1.用作硬质合金添加剂,亦可制取高纯。在空气中加热500~800°C时,
纳米氮化锆ZrN
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简介:产品参数产品名称:氮化锆熔点:2980°CCAS号:25658-42-8分子式:ZrN密度:7.09(g/cm2)分子量:105.23应用领域科研所、工业、电子学、材料科学、原子能工业、航天航空、国防
纳米氮化铪HfN
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简介:产品参数熔点:3310°CCAS号:25817-87-2分子式:HfN密度:13.8(g/cm2)分子量:192.5应用领域1.电子领域氮化给是一种电子材料,可用于制造高速电子器件和集成电路。相较于传
纳米五硼化二钨W2B5
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简介:产品参数产品名称:五硼化二钨熔点:2365°CCAS号:12007-98-6分子式:W2B5密度:15.2(g/cm2)分子量:194.65应用领域硼化钨主要用于制造高速切削工具和其他需要超硬材料的应
纳米二硅化铪HfSi2
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简介:产品参数熔点:1680°CCAS号:12039-90-6分子式:ZrSi2密度:8.02(g/cm3)分子量:234.66应用领域金属陶瓷、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天、核反应堆控制棒、核
纳米一硅化五铜Cu5Si
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简介:应用领域1.由于硅化铜具有良好的导电性,它常被用作电子元件的材料,如集成电路、电路板和导线。硅化铜薄膜可用于钝化铜基芯片,压制其扩散和电子迁移,及作为扩散阻挡层。2.高温材料,硅化铜具有良好的高温稳定
二氧化钛纳米线TiO2
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简介:产品参数产品名称:二氧化钛纳米线比表面积:30(m2/g)CAS号:13463-67-7分子式:Ti02密度:3.84(g/cm2)分子量:79.87应用领域能源、环境及生物医学领域。1.光电性能与能
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