Phenom Pharos G2 是飞纳推出的台式场发射扫描电镜,可用于催化剂颗粒形貌观察,帮助分析颗粒尺寸、表面结构和分散状态。
Phenom Pharos G2 采用肖特基热场发射电子枪,电子光学放大倍数可达 2,000,000 X,分辨率优于 1.5 nm,适合对高分辨形貌、精细结构和微纳尺度特征有要求的研发与检测场景。
该产品具备台式化设计、低/中/高三种真空模式、背散射探测器、二次电子探测器,并可根据需求选配能谱探测器。具体配置和价格根据样品类型、成像需求及功能配置确定,可通过平台询价/留言入口获取官方选型建议,并预约试样。
产品特点
采用肖特基热场发射电子枪,可用于催化剂颗粒表面、细小结构及微纳尺度特征的高分辨扫描电镜成像。
电子光学放大倍数可达 2,000,000 X,分辨率优于 1.5 nm,可用于观察催化剂颗粒的表面结构、局部形貌及细微特征。
可用于观察颗粒尺寸、形貌特征及团聚、分散情况,为催化剂制备工艺和材料结构研究提供微观图像信息。
支持 1 kV - 20 kV 连续可调,可根据不同催化剂材料和样品状态选择合适的观察条件。
支持低、中、高三种真空模式,可适应不同材料性质和实验需求,为催化剂及功能材料样品观察提供更多测试选择。
标配背散射探测器和二次电子探测器,可根据研究需求选配能谱探测器,对颗粒、局部区域或异常位置进行元素分析。
设备采用台式化设计,可应用于催化剂研发、功能材料研究、高校科研及第三方材料检测等场景。
应用领域:
可用于催化剂颗粒形貌观察、功能材料研发、纳米颗粒分析、材料表征和第三方检测。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 光学放大 | 27 - 160 X |
| 电子光学放大 | 2,000,000 X |
| 分辨率 | 优于 1.5 nm |
| 电子枪 | 肖特基热场发射电子枪 |
| 光学导航相机 | 彩色 |
| 加速电压 | 1 kV - 20 kV 连续可调 |
| 真空模式 | 低 / 中 / 高三种模式 |
| 探测器 | 背散射探测器、二次电子探测器 |
| 可选探测器 | 能谱探测器 |
可用于催化剂及相关功能材料的颗粒形貌、表面结构和分散状态观察。对于具体样品,实际测试方案还需结合材料特性、样品尺寸和研究目标确定。
可以根据需求选配能谱探测器,对颗粒或局部区域进行元素成分分析,为材料组成研究和异常区域判断提供参考。
除催化剂研究外,Phenom Pharos G2 还可用于纳米材料、半导体、碳材料、陶瓷、锂电材料、光伏材料等需要高分辨微观形貌观察的研究场景。
产品价格根据具体配置、探测器选项和实际应用需求确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型及分析需求,获取相应的设备配置建议。