MILA-5000系列具备红外金镜炉的诸多优点：能够实现快速加热/冷却，同时还能进行清洁式加热。它可以在各种不同的气氛环境中进行加热，是一款结构紧凑、价格低廉的红外灯加热装置，其温度控制器与气氛控制模块为一体设计。
通过USB连接，可在电脑上完成加热操作，从而方便地管理相关数据。
强介电体薄膜的晶体退火
离子注入后的扩散退火、氧化膜生成退火
硅、化合物晶圆的烧结、配向处理
玻璃基板的均匀热处理
热循环、热冲击、热疲劳试验
升温脱理试验用加热炉
催化效应试验
可选择真空、气体、气体流动状态或大气环境等任意氛围
精确的温度控制
台式设计，结构紧凑
可以通过您手中的电脑轻松设置温度程序，以及输入外部信号。
可以将加热过程中的温度数据显示在电脑上。
| 型式 | MILA-5000-P-F （均热型） | MILA-5000-P-N （高温型） | MILA-5000UHV （高温・高真空型） |
|---|---|---|---|
| 温度范围 | RT～800℃ | RT ～ 1200℃ | RT～1000℃ |
| 试样尺寸 | 角 20mm × 厚2mm | ||
| 加热氛围 | 大气中、低真空中、惰性气体中 | 大气中、高真空中、惰性气体中 | |
| 工艺压力 | 10Pa～大气压（RP*1使用，室温无负荷） | 10-4Pa～大气压（TMP*1使用状态，室温且无负荷时） | |
※1：真空排气装置为可选配置
※2：加热温度会因被加热物体的红外反射/吸收特性、热容量以及材质的不同而有所差异。
观察正在加热的样品
如果安装用于样品观察的CCD摄像头单元，就可以将加热过程中样品的变化情况导入电脑中。
在热处理的同时测量电阻率
只需将其替换到电阻测量单元中，并连接到您手头的数字万用表上，即可在进行加热的同时测量电阻率。
通过液氮喷雾实现快速冷却
从1000℃快速冷却到0℃，仅需2秒。
MILA5000-P-N型**升温速度
样品尺寸：W20×L20×t0.5（mm），材质为镍板。
工作环境为真空状态。
额定参数为：200V、4kW，100%功率
MILA5000-P-N型温度分布
样品尺寸：W20×L20×t0.5（mm），材质为镍板
环境条件：真空环境
温度测量点数：TC（K）
MILA5000-P-F型的**升温速度
样品尺寸为W20×L20×t0.5（mm），材质为镍板。
加热环境为真空状态
其额定参数为200V、1kW，100%功率
MILA5000-P-F型温度分布
样品尺寸：W20×L20×t0.5（mm），材质为镍板
环境条件：在N2气体流动环境中
温度测量点数（单位：K）
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