Phenom XL G3 大仓室台式扫描电镜

产品概述

Phenom XL G3 是一款大仓室台式扫描电镜，可用于材料表面形貌观察、焊点缺陷分析、电子元器件失效分析及质量检测等应用。设备采用大尺寸样品仓设计，可对** 100 × 100 mm 的样品进行观察，同时支持多样品检测，适用于研发实验室、生产质检及第三方检测等场景。

在焊点缺陷分析中，Phenom XL G3 可用于观察焊点表面形貌、断裂位置及失效区域，为焊接质量评估和失效原因分析提供微观形貌信息。

设备采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数**可达 200,000×，分辨率优于 8 nm。平均成像时间约 40 秒，可满足日常样品检测及批量观察需求。

Phenom XL G3 支持低、中、高三种真空模式，可适应不同类型材料样品的观察需求。设备标配背散射电子探测器，并可根据实际应用需求选配二次电子探测器及能谱探测器，实现形貌观察与元素分析等功能。

产品特点

大仓室设计，适合大尺寸及多样品检测

设备**可容纳 100 × 100 mm 样品，并支持同时放置多个样品，可满足较大尺寸样品观察及批量检测需求。

快速成像，提高检测效率

平均成像时间约 40 秒，适用于日常质量检测、研发测试及多样品观察等应用场景。

CeB6 电子源，满足常规微观形貌分析需求

采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时。电子光学放大倍数**可达 200,000×，分辨率优于 8 nm，可用于材料表面及微观结构观察。

多种真空模式，适应不同样品类型

支持低、中、高三种真空模式，可根据样品特性选择合适的测试条件，适用于多类材料样品的微观形貌分析。

支持多种探测器配置

设备标配背散射电子探测器，可根据应用需求选配二次电子探测器和能谱探测器，用于获取不同类型的形貌及成分信息。

台式设计，适合实验室日常使用

设备采用台式结构设计，可用于研发实验室、企业质检部门及检测机构等场景，满足日常样品测试与分析需求。

应用领域

Phenom XL G3 大仓室台式扫描电镜可应用于以下领域：

• 焊点表面形貌及缺陷观察

• 电子元器件失效分析

• PCB 及电子产品质量控制

• 半导体及封装材料检测

• 金属、陶瓷及高分子材料形貌分析

• 异物、颗粒及污染物观察

• 第三方检测与材料研发

技术参数

常见问题

Phenom XL G3 适合哪些样品？

Phenom XL G3 适合较大尺寸样品、多样品批量检测以及常规材料微观形貌观察，可应用于金属、电子元器件、PCB、封装材料及其他工程材料的分析。

是否可以进行元素分析？

设备可根据应用需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素成分分析，实现形貌与成分信息的综合观察。

是否适合焊点缺陷分析？

可以。设备可用于观察焊点表面、断裂位置及失效区域的微观形貌，为焊接缺陷分析和失效原因判断提供参考。

产品价格是多少？

设备价格根据具体配置、探测器选项及应用需求确定。用户可通过平台询价或留言提交样品类型及测试需求，获取相应的产品配置建议。

产品服务

如需了解 Phenom XL G3 大仓室台式扫描电镜的产品配置、焊点缺陷分析方案、应用资料或报价信息，可通过平台询价或留言提交样品类型和测试需求，获取进一步的产品选型建议。