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美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料
美国 PALL 颇尔 Profile® II CMP用深度过滤器 半导体抛光浆料
  • 型号

    Profile® II
  • 产地

    美国
  • 品牌

  • 产品分类

    过滤器
  • 关注度

    149
  • 参考报价

    1万元以下
产品详情

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用于CMP工艺过滤的高效深度过滤器

用于化学机械抛光工艺的Profile II型深度过滤滤芯,能够有效去除氧化物、钨和铜浆料中的聚集颗粒及凝胶,同时不会扰乱颗粒的分布状态。这类滤芯具有极高的过滤效率,因此几乎不会带走那些有用的浆料颗粒,同时却能大幅减少超大颗粒的残留。

为何选择CMP深度过滤滤芯?

这类深度过滤器的过滤精度可在0.2微米到40微米之间,其过滤精度是传统深度过滤器的5到10倍。此外,它们还拥有均匀分布的孔结构,从而可实现预过滤功能。


全新滤芯结构与过滤机制

滤芯外侧部分(锥形孔结构→延长过滤寿命)

该部分孔径随向内延伸而逐渐减小,从而实现高效预过滤;凭借连续的孔径变化与深度过滤效应,可显著延长过滤寿命

滤芯内侧部分(恒定孔径结构→可靠过滤)

该部分孔径保持恒定且均匀,可实现精准过滤。


材质

过滤介质聚丙烯(Polypropylene)
支撑芯聚丙烯(Polypropylene)
端盖、外笼(MCY、AB 系列)聚丙烯(Polypropylene)
端封(RMF 系列)桑普雷恩(Santoprene)¹

¹ 桑普雷恩(Santoprene)为埃克森美孚化工公司商标


适用外壳

RF 系列请使用 R 系列外壳
MCY 系列请使用 M 系列外壳
RMF 系列请使用 M 系列外壳
AB 系列请使用相同 O 型圈规格的 A 系列外壳。规格 20 可在线进行蒸汽灭菌

(注)在 40℃以上高温条件下使用时,请与各营业所咨询。


特点与优势 

■ 具备额定过滤精度 

■ 无滤材转移或剥离现象

■ 低压降 

■ 无异物泄漏 

■ 高集尘能力

■ 广泛的流体适用性


规格

耐压差

0.41 MPa(约 30 ℃)

0.34 MPa(约 50 ℃)

0.21 MPa(约 70 ℃)

0.10 MPa(约 82 ℃)

使用温度MAX 82 ℃


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