光刻胶高温烘箱厂家推荐——认准:上海简户仪器
光刻胶高温烘箱针对需要较高固化温度的光刻胶、PSPI 光敏聚酰亚胺胶开发,满足高温坚膜、深度固化工艺,区别于普通低温烘箱,可稳定长时间运行高温工况,用于去除光刻胶高沸点溶剂,完成胶层充分交联,保障光刻胶耐蚀刻性能,适配晶圆、基板、玻璃、面板工件高温烘烤制程。
产地:中国上海,上海简户仪器设备有限公司原厂研发生产,整机国内组装,出厂经过高温满载均匀性实测。
1、碳化硅加热组件,耐高温抗老化,长期高温运行温场稳定; 2、多段程控温控,支持升温‑保温‑降温整套固化曲线编辑存储; 3、SUS316L 全满焊镜面内胆,耐高温耐腐蚀,不易析出颗粒物; 4、可选高纯氮气置换系统,抑制高温下光刻胶氧化发黄; 5、完备安全防护,超温切断加热、门体联锁、过热报警; 6、触控人机界面,历史数据存储导出,方便工艺复盘。
半导体晶圆高温坚膜、PSPI 光敏聚酰亚胺固化、显示面板光刻胶高温固化、光学基板光刻胶热处理、科研实验室新材料研发、MEMS 器件加工。
温度范围:室温 + 50℃~450℃
温度均匀性:±1℃满载
升温速率:1‑20℃/min 可调
内胆:SUS316L 镜面不锈钢满焊
洁净等级:Class1000,可选 Class100
选配:充氮微氧控制≤5ppm、真空功能
腔体容积:多规格,支持非标定制
电源:AC380V
高温段控温稳定,过冲小;耐高温内胆不易被光刻胶挥发物腐蚀;国产替代进口,大幅降低采购与维保成本;支持实验室小批量与产线大批量两种工况;厂家可提供高温工艺技术指导;全国售后上门服务。
实验室高温标准款:26000 元起;量产高温机型:60000‑320000 元;真空充氮高温定制款价格面议。
1、高温状态下温场补偿算法,降低高温区温差; 2、废气导流结构,把光刻胶高温挥发溶剂定向排出,减少腔体二次污染; 3、AI 工艺辅助,可根据胶种自动推荐升温固化程序; 4、加热元件寿命优化,减少高温工况更换频次,降低运维成本。
MEMS 研发单位、半导体材料企业、面板研究院所、高校微电子实验室。
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