可应对陶瓷烧成温度1600°C

倒立式气氛炉为焊接铁板的密封结构，可应对氮气(N2)及氢气(H2)气氛烧成。 圆筒状的炉内内壁布满加热器，可进行均匀性良好的烧成。

炉内气氛的均匀性

因采用圆筒状的炉体结构，相较一般箱型的炉体结构，圆筒状的炉体能够更确保气氛气体的分布均匀性。

炉内气氛气体湿润装置

因氮气(N2)及氢气(H2)混合气体需先进行加湿后才能供给至炉内，此设备也附有湿润装置。

日本电炉工业倒立式气氛炉，专为半导体陶瓷静电吸盘（ESC）烧成工艺定制，使用温度可达 1600℃，可选钼、二硅化钼加热元件；支持氮气、氮氢混合、大气等多种气氛环境。

采用倒立式炉体结构，工件自上而下吊装进出炉，可规避基板自重形变、落尘污染问题，保障静电吸盘陶瓷面平整度与绝缘特性。

整套炉体、保温结构、工装均可定制，配套精密气氛流量控制与多段程序温控，稳定控制升温、保温、降温时序，适用于氧化铝、氮化铝等半导体陶瓷静电吸盘的脱脂、预烧、致密化烧结，是半导体陶瓷零部件量产与试样开发专用高温烧成设备。