SANVAC 小型高温真空炉为实验室研发、小试样烧结、热处理、钎焊、脱气专用紧凑型真空热处理设备，主打小容积、高真空、快速升温。采用钨 / 钼加热器 + 多层辐射反射屏结构，可达 1800℃高温，可实现高真空环境（可达 9.0×10⁻⁴Pa 级别），支持真空、惰性气氛工艺。设备炉体紧凑占地小，配备程序温控系统，可设定多段升温 / 保温 / 降温曲线，适合陶瓷、金属粉末、硬质合金、功能材料、稀有金属试样的烧结与热分解处理，广泛用于高校、材料研究所、企业研发实验室的新材料开发与小样工艺验证。
本装置用于在高温、真空环境下对小型试样进行热处理。特点：可在 60min 内升温至 1700℃，实现快速升温。
| 极限压力 | 9.0×10⁻⁴Pa 级别（常温、无负载、脱气完成时） |
| 排气速率 | 达到 1.0×10⁻³Pa 耗时≤20min（常温、无负载、脱气完成时） |
| 温度 | 可达1800℃ |
| 升温时间 | 升至 1700℃≤1h |
| 炉膛内部尺寸 | Φ159.2×190mmH，SUS304 材质 |
| 均热区 | Φ30×65mmH |
| 加热结构 | 钨加热器反射屏：钨 / 钼多层结构 |
| 加热控制 | 晶闸管控制PID 温控（含程序温控） |
| 真空排气系统 | 油旋片泵：167L/min【50Hz】油扩散泵：125L/sec |
| 真空计 | 宽量程真空计 |
| 操作方式 | 支持手动 / 自动操作 |
| 控制系统 | 时序控制器 + 触摸屏 |
| 公用工程条件 | 供电：AC200V 三相 6.5kVA 冷却水：≥13L/min，0.15MPa~0.2MPa，≤25℃循环 仪表空气：≥0.5MPa 安装尺寸：900mmW × 700mmD × 1405mmH |
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