一、产品概述

SGN 思峻 GMSD2000 为前置胶体研磨 + 两级高剪切分散复合立式管线设备，融合研磨破碎与纳米分散双重功能，区别单一剪切分散设备。可配套循环料罐、移动底座，实现负压无尘自动吸粉、硬团聚粗磨细化、纳米软团聚解聚、乳化均质、浆料脱泡一体化连续循环加工。

适配锂电、医药、食品、涂料、日化、农化全行业固液粉体预处理，分卫生款、防爆款两种配置，可对接自动化生产线，兼顾小试、中试、规模化量产。

二、工作原理

立式变频皮带传动，物料自上而下三级递进处理：一级可调间隙研磨腔：文丘里负压自动吸入干粉与液相，锥形研磨齿挤压摩擦，破碎微米级粉体硬结块，粉体充分润湿消除鱼眼；二级中剪切解离腔：湍流打散研磨后微絮团，助剂均匀包覆粉体颗粒，搭建稳定悬浮基底；三级超细纳米分散腔：窄间隙齿形产生水力剪切、空化湍流，剥离纳米软团聚，缩小粒径，抑制成品沉降返粗。物料同步承受研磨挤压、高速剪切、离心撞击多重作用力，单次循环完成研磨、混合、分散、脱泡四道工序。

三、核心优势

研磨分散二合一结构：先粗磨破碎硬质大颗粒，再多级纳米细化，大幅降低后端砂磨机负荷；模块化定转子选配：碳化钨耐磨齿适配钛白、锂电等高硬度粉体；镜面柔和齿适配珠光、蛋白、脂质脆质物料；双安全配置可选：防爆机型配隔爆电机、整机防静电跨接，适配 NMP、酯类易燃溶剂；卫生机型全镜面 316L 不锈钢，支持 CIP/SIP 灭菌；低温缓冲腔体设计：多重缓冲结构控温≤3℃，避免热敏原料高温降解失效；密闭无尘循环生产：负压密闭投料无扬尘，立式自重排空无残料，圆弧无死角腔体易清洗，多配方切换无粉体交叉污染。

四、主要技术参数