CMP化学机械抛光清洗机_声达半导体设备（江苏）有限公司_供应信息_采购中心

CMP化学机械抛光清洗机

产品详情

适用工件： (Applicable parts)	6"1花篮，8"1 pc花篮 6”1 Cassette,8”1 pc Cassette
批量产能： (Capacity)	1 batch/10min
工艺流程： (Procedure flow)	上料(手动)→超声药剂槽→QRD槽→超声碱洗槽→QDR槽→HF槽→QDR槽→下料(手动) Load(Manual)→Ultrasonic Cleaning Agent Tank→QRD Tank→Ultrasonic Cleaning Agent Tank→QDR Tank→HF Tank →QDR Tank →Unload(Manual)
主要材料： (Major material)	金属骨架SUS304+PP乳白板，槽体采用PPN+SUS316 (Metal frame SUS 304,Ice-Cream PP board,the tank uses PPN+SUS316)