全站

  • 全站
  • 资讯
  • 产品
  • 厂商
  • 资料
  • 百科
  • 招聘
  • 会展
  • 图片
当前位置:
首页 > 采购中心 > 供应信息 >
CVD 真空化学气相沉积设备
CVD 真空化学气相沉积设备
  • 型号

    CVD 真空化学气相沉积设备
  • 产地

    沈阳
  • 品牌

    威泰科技
  • 产品分类

    半导体行业专用仪器
  • 关注度

    795
  • 参考报价

产品详情

CVD 真空化学气相沉积设备详情

CVD设备适用于热丝法化学气相沉积金刚石,采用钨丝/钽丝作为加热器,加热分解碳物质,激活化学气相反应,制备金刚石膜。


安装形式

立式

加热器分布方式

圆周分布

加热器材质

钨丝/钽丝

保温材料

MAX温度

3000℃

控温精度

±1℃

均温性

±5℃

极限真空度

5×10-4Pa

均温区尺寸

按客户要求定制

控制方式

自动/手动


在线询价

* 联系人

* 联系电话

* 单位名称

邮箱

地址

* 留言

* 验证码

联系电话
关闭
虚拟号将在180秒后失效,请在有效期内拨打
为了保证隐私安全,平台已启用虚拟电话,请放心拨打.(暂不支持短信)
使用微信扫码拨号
是否已沟通完成
您还可以选择留下联系电话,等待商家与您联系
*需求描述:
*单位名称:
*联系人:
*联系电话:
Email:
(请留下您的联系方式,以便工作人员及时与您联系!)