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Cu 铜靶材
Cu 铜靶材
  • 型号

    RDB-BC-Cu-1
  • 产地

    上海
  • 品牌

    上海研倍
  • 产品分类

    耐磨衬片
  • 关注度

    342
  • 参考报价

产品详情

上海研倍新材料 专业生产定制 各类靶材 合金靶材

1、产品信息   

货号

厚度

纯度(%)

形貌

颜色

RDB-BC-Cu

可定制

99.9

靶材

黄铜色或紫铜色

2、产品规格

定制

3、产品概述

Cu铜靶材是一种用于薄膜沉积和材料研究的关键材料。它通常用于物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)过程中,用于制备薄膜材料,如金属薄膜、氧化物薄膜和其他功能性薄膜。

Cu铜靶材通常具有高纯度和均匀的化学成分,以确保薄膜沉积过程中的稳定性和可重复性。它们还具有良好的导电性和热导性,使其成为制备导电薄膜和热管理材料的理想选择。

在材料研究领域,Cu铜靶材也被广泛用于薄膜生长和表征实验中,以研究其结构、性能和应用潜力

4、产品用途

薄膜沉积:Cu铜靶材通常用于物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)过程中,用于制备薄膜材料,如金属薄膜、氧化物薄膜和其他功能性薄膜。

导电薄膜制备:由于铜的良好导电性,Cu铜靶材常用于制备导电薄膜,如用于电子器件、太阳能电池和显示器件等。

热管理材料:Cu铜靶材的高热导性使其成为制备热管理材料的理想选择,用于散热器、热传导板等领域。

材料研究:Cu铜靶材也被广泛用于薄膜生长和表征实验中,以研究其结构、性能和应用潜力,对于材料科学和纳米技术的研究有着重要的作用。


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