1、产品信息   

2、产品规格

定制

3、产品概述

钽（Ta）靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺，主要应用于制备具有高温稳定性和耐腐蚀性的薄膜。由于钽具有良好的化学稳定性和高熔点，因此在这些领域中得到广泛应用。例如，钽靶材可用于制备具有高温稳定性和耐腐蚀性能的薄膜，如在半导体制造、光学涂层、热防护膜等领域。此外，钽靶材还可用于制备具有特殊功能的薄膜，如防腐蚀膜、导热膜等。

4、产品用途

高纯度：钽靶材通常具有高纯度，能够满足各种工艺对材料纯度的要求。

工艺适用性：钽靶材可用于不同的薄膜沉积工艺，包括物理蒸发沉积和磁控溅射等。

应用领域：钽靶材在半导体制造、光学涂层、装饰膜等领域有广泛的应用。

性能优异：钽靶材具有良好的化学稳定性和耐腐蚀性能，能够满足高端产品对材料性能的要求。