一、结构简介
碳纳米膜制备设备如图所示，由气体质量流量计控制系统、液体注液系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线或膜收集系统，红外烘干系统等组成。生长炉的**温度1400℃，并可在0-1400℃之间连续可调，垂直式分布热场，三点控温(三段长度平均分配)，设备顶部设有注液口、导流器。炉体采用双层壳体结构并带有风冷系统，保温材料为加厚型，壳体表面温度小于60℃。采用高纯氧化铝管作为炉膛材料，加热元件为优质硅碳棒。本款碳纳米管或膜CVD设备可以实现连续生长不间断的特点。
二、性能参数
型号 | LFT1400C 800D802Z |
额定功率 | 18KW |
额定电压 | AC380V |
**温度 | 1400℃ |
额定温度 | 1300℃ |
推荐升温速率 | 1400℃以下≤10℃/min |
炉管尺寸 （可根据客户要求订制） | 刚玉管Φ80× 1400mm |
外型尺寸（长×深×高） | 1680*700*2560mm |
控温精度 | ±1℃ |
极限真空度（选件） | 1.0×10-3Pa（机械泵+分子泵） |
加热元件 | 硅碳棒 |
重量 | 230KG |
客户自配装空气开关 | 40A |
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